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固定型的研磨砂纸，学生使用的较多，但在工业生产中并不常用，一般以条状或卷状供应，例如HandiMet2卷状砂纸。试样在砂纸上从顶到底与砂纸上的磨削颗粒摩擦，每一个研磨过程保持一个方向，要么纵向要么横向，这样获得的研磨面要比一会纵向一会横向的平整度好。本程序可以以“干式”研磨，但通常会加水以冷却试样表面，同时用把研磨颗粒碎片带走。带式研磨机，例如SurfMetI或DuoMetII带式研磨机如图16，在许多实验室都会见到。另外有一种类似的高速盘式研磨机，象SuperMet研磨机，如图17。这些研磨机通常用于粗磨砂纸，粒度从60到240，主要用于去除切割带来的毛刺，修整不需要保留的边缘，平整要检查的被切割的表面，或去除切割缺陷。研磨抛光是制备试样的步骤或中间步骤，以得到一个平整无划痕无变形的镜面。这样的表面是观察真实显微组织的基础以便随后的金相解释，包括定量定性。抛光技术不应引入外来组织，例如干扰金属，坑洞，夹杂脱出，彗星拖尾，着色或浮雕(不同相的高度不同或孔和组织高度不同)。 在哪里可以买到适合金相抛光用的金相抛光机-赋耘检测技术！上海金相磨抛机替代ATM
金相研磨机磨盘直径有200mm、230mm、250mm、300mm可选！大直径的研磨盘会增加试样在给定时间内的运动距离。例如，转速一样时，试样在直径10英寸或直径12英寸(250或300mm)研磨盘上的运动距离，分别是在8英寸(200mm)直径研磨盘上运动距离的。因此当使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盘时，建议将时间减少为8英寸(200mm)研磨盘的80%或67%。大直径的研磨机的试样制备时间要短，但耗材消耗稍多，所以大直径的研磨机更适合试样数量多试样尺寸大的地方使用。根据报道，研磨和抛光速率因晶体方向不同而不同。铼是非常敏感于冷作的金属，并生产机械孪晶。.钽是比铌更软的更难制备的金属，因为它更容易由切割和研磨产生变形层。钽可能会含有硬的相，这将引起难控制的浮雕问题。钒是软的有延展性的金属，可能因氢变脆，否则钒就可以象不锈钢那样制备了。尽管研磨和抛光的速率较低，但钨制备不是很难。硬的碳化物和氧化物可能会出现在这些金属里，这将浮雕缺陷问题的产生。机械抛光经常会在步骤使用侵蚀抛光剂或者跟随一个震动抛光步骤或化学抛光步骤。手工制备这些金属和合金相对乏味，因为它们的研磨和抛光速率太低。一般推荐使用自动制备方法，特别当采用侵蚀抛光时。 上海金相磨抛机替代ATM赋耘检测技术（上海）有限公司金相抛光机金相自动磨抛机金相磨抛机磨抛机磨光机金相研磨机压力怎么设定？
金相抛光机金相自动磨抛机金相磨抛机磨抛机磨光机金相研磨机研磨通常用于研磨制备金相试样的研磨介质有SiC，Al2O3,金刚砂(Al2O3-Fe3O4)，复合陶瓷和金刚石。由于磨削效率太低，金刚砂纸已经很少有人使用。SiC砂纸比氧化铝砂纸更耐水浸。氧化铝砂纸，如PlanarMetAl120砂纸，确实对一些材料有着比SiC更好的磨削率[3]。这些磨削颗粒被粘到不同尺寸的片状，盘状和带状的纸、聚合物、或布等支持材料上。特例是将磨削颗粒嵌到黏结材料中作成研磨砂轮。磨削颗粒也可以以粉末形式使用，通过预混合成磨削颗粒液或悬浮液后添加到研磨步骤中。SiC颗粒，特别是较细尺寸的砂纸的SiC颗粒，很容易嵌到软材料中例如Pb，Sn，Cd和Bi。对软材料和铝，金刚石磨削颗粒嵌入也是一个问题，但主要是由于预混合成磨削颗粒液在无绒抛光布上的使用，研磨步骤中，更应更多的考虑其对组织的损伤而不是的表面光洁度。这主要是因为对组织的损伤是残留在试样里的，可能会带到并影响真实组织的观察。
金相全自动研磨抛光设备采用多头试样夹持器，初的磨抛步骤叫磨平步骤。本步骤必须把切割损伤去除，以便给所有的试样建立一个统一的平面，保证在随后的步骤中每一个试样所受的影响都一样。碳化硅和氧化铝砂纸通常被用于磨平步骤，并且效果理想。除了这些砂纸之外，还有其它的选择。其中一种，是用传统的氧化铝磨抛石磨平。这就要求一部特殊的设备，氧化铝磨抛石必须高速旋转，≥1500rpm以有效研磨。这些氧化铝磨抛石除了必须定期用金刚石韧磨以保持平整度，研磨损伤大及研磨颗粒容易嵌到试样里可能会是一个要面对的问题。其它材料也被用于磨平步骤和随后的步骤，以替代SiC砂纸。对那些非常硬的材料，如陶瓷和烧结碳化物，一个或多个金属黏结或树脂黏结的金刚石磨盘(传统类型)粒度从70µm到9µm可以使用。赋耘检测技术（上海）有限公司生产金相磨抛机同时也提供金相制样方案！
微电子材料所指的材料范围很广，这是因为微电子设备很复杂，包含大量的单个组件。例如，微处理器的失效分析可能会要求金相工作者正好从多层镀层(例如氧化物、聚合物、易延展的金属如铜或铝、难熔金属如钨或钛-钨)的硅片的横截面切割。另外，包装材料也可能含有机械性能各异的材料如I氧化铝或焊料。这些焊料有可能含有高达97%的铅。可以想象将这么多性能各异的材料整合到一个单一的设备里，并开发出一个适用于所有材料的制备程序的可能性就不存在，所以我们必须将注意力集中在几种材料上，去开发我们所要关注材料的试样制备程序。初定义的微电子材料是硅。硅是一种相当硬的脆的材料,不容易用大颗粒的SiC研磨。因为SiC砂纸粘有坚硬的磨削颗粒，当它们接触时会在硅片的边缘造成损伤。另外，会在硅片的边缘产生拉应力，将导致较深的破坏裂纹。尽量接近切割目标区切割，但也不能太接近目标区切割,精细研磨仍然是必不可少的。因此硅的制备被划分成两种截然不同的方法，第一种是传统的金相方法，第二种用特殊的夹具和研磨颗粒制备没有封装的硅片。钢铁、黑色金属材料、热喷涂涂层配什么材质适合用什么金相磨抛机？上海不锈钢金相磨抛机抛光时间大概多久
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